电镜类仪器
场发射透射电镜
设备型号:Talos F200X
仪器品牌:FEI
放置区域:58楼ACE区地下一层B149室
技术参数
1.HRTEM线分辨率：0.10 nm@200 kV； 2.STEM分辨率：0.16 nm@200 kV； 3.能谱仪（EDS）能量分辨率：136 eV； 4.电子能量损失谱（EELS）能量分辨率：0.8 eV。
功能特色
1.可进行组织分析，拍摄明场像、暗场像、高分辨像（HRTEM）； 2.可进行选区域电子衍射（SAED）和会聚束衍射 (CBED)，分析微区晶体结构、样品厚度以及材料应变场； 3.分割式STEM探头，可进行扫描透射电子显微术成像（STEM）其中包括明场像（BF），环形明场像 (ABF)，环形暗场像（ADF）以及高角度环形暗场像 (HAADF)，实现对轻重元素成像； 4.可进行差分相位衬度成像（DPC）和积分差分相位衬度成像（iDPC），实现轻重元素原子的同时成像和对电子束敏感材料高信噪比的成像； 5.无窗口四探头Super-X超级能谱探测器（探头面积120mm2），能够在任意样品倾角下实现快速高精度的EDS 分析； 6.配有GIF1077（Continuum S）EELS系统，可进行微区价键分析； 7.配有3D重构成像系统，自动进行原始数据采集、对中、重构，可获得样品的三维形貌。
应用领域
主要应用于金属、合金、陶瓷、玻璃、聚合物、半导体以及这些材料的复合体； 纳米材料：单层材料（石墨烯、量子井）、纳米管、纳米线、量子点、纳米颗粒； 生物材料、生物/无机界面以及纳米-生物/生物材；