电镜类仪器
三离子束抛光仪
设备型号:EM TIC3X
仪器品牌:Leica
放置区域:58楼ACE区地下一层B130室
技术参数
具备三把离子枪（1keV-10keV），支持离子束切割及刻蚀，切割速率300μm/h（Si@10kV, 3.5mA, 100μm切割高度）。可容纳最大50×50×10mm样品，实现4mm×1mm高质量截面，且切割过程中样品固定无偏转，确保无投影效应及良好热传导。设备采用真空泵缓释台，无震动影响，并配备触摸屏操作、可编程及软件升级功能，操作便捷。可选配液氮制冷台（-30℃至-160℃），三样品台（支持连续处理三个样品）、旋转样品台（支持离子束抛光及截面切割），以及连接真空冷传输系统 Leica EM VCT500，满足真空、冷冻及惰性气氛传输需求，适用于多种高精度材料样品制备。
功能特色
Leica EM TIC 3X 离子束切割系统 采用离子枪激发的离子束轰击样品，可获得高质量、无应力的切割截面，特别适用于 SEM 观察多层膜材料、软硬复合材料等高难度样品，并有效避免涂抹效应，简化实验优化流程。设备支持多种可切换样品台（标准样品台、三样品台、旋转样品台、冷冻样品台），可满足常规、高通量及温度敏感材料（如高分子聚合物、橡胶、生物材料）的精细制备需求。
应用领域
获得无应力损伤平整表面,用于EBSD